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第36章 28纳米碳基芯片(第2页)

“惯性约束!

能很稳定的把碳的活性降低!

我已经制作出8英寸的石墨烯晶圆,正准备尝试一下光刻和刻蚀!”

欧武兴奋的说道。

把晶圆制造出来是芯片制造的第一步,第一步已经成功了。

接下来就看材料在光刻和刻蚀之后的表现了。

如果光刻和刻蚀表现好的话,那就要进行封装测试。

接下来的试产叶昊一路紧盯着,因为有28纳米的光刻机,所以直接制造28纳米的芯片。

28纳米芯片属于成熟工艺的范畴了,国内的华芯国际已经能制造出14纳米的芯片了。

不过华芯国际使用的并不是国产的光刻机,还是会受限制于漂亮国的技术。

现在极星芯片组的所有设备都是国产的,国产率100%,绝对不会出现被制裁的现象。

不过由于国产光刻机的限制,只能制造出28纳米的芯片。

其实28纳米的光刻机能利用多次曝光技术制造出14纳米的芯片,但良品率太低,不划算。

28纳米的碳基芯片的性能就能够跟7纳米的硅基芯片性能相媲美,所以28纳米的光刻机是够用的。

毕竟现在主流高端手机用上的也就是7纳米的芯片,花瓣通信也是因为7纳米芯片受限制,才会遭受到漂亮国的制裁。

8寸的石墨烯晶圆制造出来之后,涂上光刻胶,然后进行光刻和刻蚀施工,之后清洗掉光刻胶。

这样的步骤要循环几十次,一般有五百多道工序。

以前大家研究的碳基芯片也有小量成功的,但是都是只有几百万晶体管的集成度。

相比现在动辄几十亿上百亿的集体管,以前研究的碳基芯片显然是不够的。

此次叶昊使用的石墨烯材料又解决了碳活性的问题,28纳米芯片晶体管的集成在五十二亿左右。

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